测试中心举行Ellipsometry 技术专题讲座的通知

发布时间:2017-08-30浏览次数:14

报告题目:Ellipsometry 技术在超薄膜研究领域应用

人:苏惠荣经理

报告时间:2017961500-1600

报告地点:材料学院A108

人:武春瑞研究员

 光谱椭偏仪具有超高的灵敏度,它能测量低达百分之一纳米(10-10米)的变化,使科研工作者能从膜厚的变化中推导出丰富的信息,诸如高分子反应的动力学行为等;光谱椭偏仪还可以和石英微天平联用,获得更可信的实验结果。

   椭圆偏振测量的应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、大面积光学膜、有机薄膜等,也可用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。结合计算机后,具有可手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等优点。光学椭偏显微成像是一种新型超薄膜及表面显示技术,是研究生物分子与固体表面吸附以及生物分子之间相互作用的一种简单、快速和可靠的手段。它不仅能够大面积精确显示超薄膜的厚度分布,而且能够用于表面实时吸附的动力学研究。在抗原-抗体检测分析方面,它不需要像酶联免疫法、荧光免疫法和放射免疫法那样对待测物作标记,也不会对待测生物分子活性造成任何扰动和损伤,操作简单,费用低廉。另外,它还弥补了传统的椭偏法的不足之处,能够有效地区分非特异性吸附、脱吸附或表面污染带来的干扰。

报告人简介:

苏惠荣经理,资深应用科学家,具有超过15年的椭圆偏振术研究使用经验,擅长解决各类实验设计及数据解析。

欢迎广大师生踊跃参加!

分离膜与膜过程国家重点实验室

材料科学与工程学院